中国陶瓷工业

2013, v.20(04) 23-26

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窄带隙半导体光催化材料研究进展
Research Progress of Narrow Band Gap Semiconductor Photocatalytic Materials

占启安;

摘要(Abstract):

概述了窄带隙半导体光催化材料的光催化反应机理、新型窄带隙半导体光催化材料的种类以及影响窄带隙半导体光催化材料的光催化活性的因素。介绍了传统半导体光催化材料的掺杂改性方法和一些新型的窄带半导体光催化材料。

关键词(KeyWords): 窄带隙;半导体;光催化

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Authors): 占启安;

DOI: 10.13958/j.cnki.ztcg.2013.04.010

参考文献(References):

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